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等離子去膠機射頻去膠機PT-60-HF

隨著我國科技的進步，等離子清洗機又稱等離子去膠機在現代工業(yè)上高速發(fā)展，原因也很簡單，選擇等離子去膠機是因為它操作簡單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。等離子去膠機在使用中四大影響要素。

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產品詳情

　　隨著我國科技的進步，等離子清洗機又稱等離子去膠機在現代工業(yè)上高速發(fā)展，原因也很簡單，選擇等離子去膠機是因為它操作簡單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。等離子去膠機在使用中四大影響要素。
　　一、等離子去膠機調整合適的頻率：
　　頻率越高，氧越易電離構成等離子體。頻率太高，以致電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子磕碰概率反而減少，使電離率降低。通常常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。
　　二、等離子去膠機調整合適功率：
　　關于必定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快;但當功率增大到必定值，反響所能耗費的活性離子到達飽滿，功率再大，去膠速度則無顯著添加。由于功率大，基片溫度高，所以應根據技術需求調理功率。
　　三、等離子去膠機調整適合的真空度：
　　恰當的真空度，可使電子運動的平均自由程變大，因而從電場取得的能量就大，有利電離。別的當氧氣流量必守時，真空度越高，則氧的相對份額就大，發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。
　　四、等離子去膠機氧氣流量的調整：
　　氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加速;但流量太大，則離子的復合概率增大，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而降低。若反響室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也添加，其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加，因而流量添加對去膠速率的影響也就不甚顯著。

功能介紹：表面清洗和活化

　　等離子體其中包括原子、分子、離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)原子、活化的分子及自由基，這些粒子的能量和活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，從而有些化學鍵被打開后結合上氧原子等高活性的物質，使得材料表面親水性得到極大提高，同時對材料表面的油污等有機大分子新的化學反應，生成氣態(tài)小分子，例如二氧化碳，水氣等氣態(tài)物質被真空泵抽走，從而達到對材料表面分子級別的清洗。

　　在粘接/bonding/印刷/噴漆/鍍膜/封裝等工序時讓產品可靠性更高，良品率更好。

設備基本參數(聯系我們了解更多詳細資料)

型號	PT-60-HF
整機尺寸（mm）	785(W)×800(D)×1800(H)
重量（Kg）	280
真空腔體	W400mm；D400mm；H400mm
托盤	W360mm；D360mm
射頻電源	輸出頻率	13.56MHz
	最大功率	500W / 1KW
	負載阻抗	50Ω
真空測量	量程	1×10^-2～1×10⁵
工藝氣路	2路工藝氣體管道	MFC質量流量計
控制系統	西門子PLC+MCGS觸摸屏
軟件功能	手動模式和自動模式
真空泵	可選油泵或干泵
外部電源	380V；50/60Hz
其他說明	設備配置可根據要求定制